一種納米級藥物顆粒的制備裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種納米級藥物顆粒的制備裝置，包括固態藥物制備裝置或組裝式藥物制備裝置；組裝式藥物制備裝置包括上表面上設置有多個納米級凹痕的基板、用于在基板上制備氣相沉積層的第一氣相沉積室、對待去除區域上的氣相沉積層進行去除并獲得多個納米藥粒的沉積層去除設備、將納米藥粒從基板取出的納米藥粒移出設備和在納米藥粒外側包覆外包覆層的外側封裝設備；固態藥物制備裝置和外側封裝設備均為固態藥粒封裝設備；固態藥粒封裝設備為第二氣相沉積室或噴霧室，第二氣相沉積室和噴霧式內均安裝有氣動攪拌機。本實用新型結構簡單、設計合理且使用操作簡便、使用效果好，能簡便、快速完成外覆緩釋膜的納米級藥物顆粒的制備過程。
【專利說明】一種納米級藥物顆粒的制備裝置

【技術領域】
[0001]本實用新型屬于納米藥物制備【技術領域】，具體涉及一種納米級藥物顆粒的制備裝置。

【背景技術】
[0002]與直接送入腸道方式(非口服)相比，傳統的口服藥物給藥較緩慢，并且沒有被完全吸收，必須先對固體制劑(如片劑)進行溶解，吸收之前藥物不可避免地會受到胃酸破壞，并且藥物需經首過效應后才能進行體內循環。另外，即使藥物已進行體內循環，但藥物的移送途徑是完全隨機的。它可能繞流并從體內排出，因而未送至需治療的疾病區，從而起不到治療效果；同時，大多數傳統的藥物在很短時間周期內便會被排出體外，這樣需服用藥物的用量相當大，不僅造成大量藥物被浪費，并且對服藥者身體帶來的副作用也比較大。
[0003]緩釋制劑(SRP)是指通過延緩藥物從該劑型中的釋藥速率，降低藥物進入機體的吸收速率，從而起到更好治療效果的制劑，但藥物從制劑中的釋放速率受到外界環境，如PH值等因素影響。《中國藥典》規定，緩釋制劑系指口服藥物在規定釋放介質中，按要求緩慢地非恒速釋放，與其它對應的普通制劑相比，每24h用藥次數應從3?4次減少至I?2次的制劑。目前，口服藥物緩釋及控釋藥物制劑是國內外醫藥產品發展的重要方向，由于其開發周期短、投入少、經濟風險低、技術含量增加而附加價值顯著提高等而被制藥工業看重。國外對口服藥物緩釋及緩控釋制劑的研究發展方向，主要以從延長藥物作用時間、方便用藥、平穩血藥濃度、減小毒副作用等方面提高病人在疾病狀態下的藥效為目標。近年來，我國緩釋及控釋制劑的研發和生產也得到很大程度地發展。目前，口服的緩釋制劑按照制備工藝不同，主要包括骨架分散型緩釋制劑和膜控型緩釋制劑兩類。其中，膜控型緩釋制劑是指通過在藥物外側包覆緩釋膜來達到控制藥物釋放速度的目的，如薄膜包衣緩釋制劑、緩釋膠囊等。
[0004]納米技術對21世紀一系列高新技術的產生與發展具有極為重要的影響，在藥物研究領域亦是如此，納米技術將使藥物的生產實現低成本、高效率、自動化和大規模化，而藥物的作用將實現器官靶向、高效和低毒等革命性的突破。現如今，納米藥物的研究已經成為現代醫學發展的重要方向之一，也是藥物創新的一個重要領域。納米藥物不是傳統的分子藥物(Molecular Medicine),而是顆粒藥物(Particulate Medicine)。與傳統的分子藥物相比，納米藥物的最大優點在于:納米藥物利用納米顆粒的小尺寸效應，容易進入細胞而實現高效；納米藥物的比表面積大，可鏈接或載帶的功能基團或活性中心多；納米材料的性能優越，便于生物降解或吸收；納米顆粒所具有的多孔、中空、多層等結構特性，易于實現藥物的緩控釋放等功能。因而，納米藥物能有效提高藥物的生物利用度。生物利用度(b1availability, F)是指藥物經血管外途徑給藥后吸收進入全身血液循環的相對量。
[0005]外側包覆緩釋膜的納米藥物(也稱為納米膠囊)，是指在納米藥物外側包覆一層緩釋膜，所包覆的緩釋膜能對內部納米藥物進行有效保護，并且緩釋膜可延緩藥物的釋放時間。納米藥粒制備的關鍵是控制粒子的大小和獲得較窄且均勻的粒度分布，減少或消除粒子團聚現象，以保證用藥有效、安全和穩定。目前發展的納米粒制備技術主要分為3類，即機械粉碎法、物理分散法和化學合成法。但對于外側包覆緩釋膜的納米藥粒的制備來說，目前國內外均處于研究階段，尚未出現一種結構簡單、設計合理且使用操作簡便、使用效果好的納米級藥物顆粒的制備裝置，能簡便、快速完成外覆緩釋膜的納米級藥物顆粒的制備過程。
實用新型內容
[0006]本實用新型所要解決的技術問題在于針對上述現有技術中的不足，提供一種納米級藥物顆粒的制備裝置，其結構簡單、設計合理且使用操作簡便、使用效果好，能簡便、快速完成外覆緩釋膜的納米級藥物顆粒的制備過程。
[0007]為解決上述技術問題，本實用新型采用的技術方案是:一種納米級藥物顆粒的制備裝置，其特征在于:包括固態藥物制備裝置或組裝式藥物制備裝置；
[0008]所述組裝式藥物制備裝置包括上表面上設置有多個納米級凹痕的基板、用于在基板上制備氣相沉積層的第一氣相沉積室、對基板的待去除區域上的所述氣相沉積層進行去除并獲得多個納米藥粒的沉積層去除設備、將第一氣相沉積室內的基板移送至所述沉積層去除設備內的第二基板移送機構、將所述納米藥粒從基板取出的納米藥粒移出設備、將所述沉積層去除設備內的基板移送至納米藥粒移出設備的第三基板移動機構、在所述納米藥粒外側包覆外包覆層的外側封裝設備和將納米藥粒移出設備內的所述納米藥粒移送至所述外側封裝設備的藥粒移送通道；所述第一氣相沉積室外側設置有將基板移送至第一氣相沉積室內的第一基板移送機構，所述第一氣相沉積室和所述沉積層去除設備內均設置有供基板放置的基板放置架；所述第二基板移送機構連接于第一氣相沉積室與所述沉積層去除設備之間，所述第三基板移動機構連接于所述沉積層去除設備與納米藥粒移出設備之間，所述藥粒移送通道連接于納米藥粒移出設備與所述外側封裝設備之間；所述第一氣相沉積室上安裝有將對需封裝藥物進行封裝的封裝材料以氣態形式送入第一氣相沉積室內的封裝材料進氣管，所述封裝材料進氣管與第一氣相沉積室內部相通；所述基板上的氣相沉積層包括平鋪在基板上表面上的下沉積層和平鋪在下沉積層上方的上沉積層，所述下沉積層和上沉積層均為由所述封裝材料氣相沉積形成的沉積層；所述第一氣相沉積室上設置有將需封裝藥物送入第一氣相沉積室內的送藥裝置，所述需封裝藥物位于下沉積層和上沉積層之間；所述納米藥粒包括芯藥、包覆在芯藥下部外側的下包覆層和包覆在芯藥上部外側的上包覆層；所述待去除區域為基板上除多個所述納米級凹痕之外的區域；所述下沉積層由位于待去除區域上方的下去除層和多個分別位于多個所述納米級凹痕上方的下包覆層組成，所述上沉積層由位于待去除區域上方的上去除層和多個分別位于多個所述納米級凹痕上方的上包覆層組成，位于納米級凹痕上方且包覆在下包覆層與上包覆層之間的所述需封裝藥物為芯藥；
[0009]所述固態藥物制備裝置和所述外側封裝設備均為固態藥粒封裝設備；所述固態藥粒封裝設備為用于在固態藥粒外側包覆一層外包覆層的第二氣相沉積室或噴霧室，所述第二氣相沉積室和所述噴霧室內均安裝有對所述固態藥粒進行連續攪拌并使得各固態藥粒均處于懸浮狀態的氣動攪拌機；所述固態藥粒為納米級顆粒；所述納米藥粒為所述固態藥粒；所述第二氣相沉積室上安裝有將對固態藥粒進行包覆的包覆材料以氣態形式送入第二氣相沉積室內的包覆材料進氣管，所述包覆材料進氣管與所述第二氣相沉積室內部相通；所述噴霧室上安裝有將所述包覆材料均勻噴至所述固態藥粒外表面上的噴霧噴頭。
[0010]上述一種納米級藥物顆粒的制備裝置，其特征是:所述固態藥粒封裝設備上安裝有將所述固態藥粒送至所述第二氣相沉積室內的送藥通道，所述送藥通道與所述第二氣相沉積室內部相通。
[0011]上述一種納米級藥物顆粒的制備裝置，其特征是:所述藥粒移送通道為拱形通道，所述納米藥粒移出設備內安裝有將所述納米藥粒吹送至拱形通道的高壓氣體設備。
[0012]上述一種納米級藥物顆粒的制備裝置，其特征是:還包括供氣相沉積室安裝的第一機架、供所述沉積層去除設備安裝的第二機架、供納米藥粒移出設備安裝的第三機架和供所述外側封裝設備安裝的第四機架，所述氣相沉積室、所述沉積層去除設備、納米藥粒移出設備和所述外側封裝設備由前至后進行安裝且其均位于同一水平面上；所述第一基板移送機構為夾持機構，所述第二基板移送機構和所述第二基板移送機構均為鏈輪鏈條輸送機構或皮帶輸送機構；所述氣相沉積室、所述沉積層去除設備和納米藥粒移出設備上均開有供基板進出的基板進口和基板出口。
[0013]上述一種納米級藥物顆粒的制備裝置，其特征是:所述送藥裝置為將需封裝藥物以氣態形式送入氣相沉積室內的藥物進氣管，所述藥物進氣管安裝在氣相沉積室上且其與氣相沉積室內部相通；所述氣相沉積層還包括平鋪在下沉積層上的藥物層，所述藥物層為由所述需封裝藥物氣相沉積形成的沉積層，所述藥物層位于下沉積層和上沉積層之間。
[0014]上述一種納米級藥物顆粒的制備裝置，其特征是:所述送藥裝置為將需封裝藥物以液態形式送入氣相沉積室內的藥液輸送管道，所述藥液輸送管道安裝在氣相沉積室上且其與氣相沉積室內部相通；所述藥液輸送管道的藥液出口位于放置于氣相沉積室內的基板正上方，所述藥液出口上裝有納米過濾膜，所述納米過濾膜的形狀和尺寸均與基板相同，所述納米過濾膜上開有多個納米級過濾孔，多個所述納米級過濾孔的數量與多個所述納米級凹痕的數量相同，且多個所述納米級過濾孔的布設位置分別與基板上的多個所述納米級凹痕的布設位置一一對應。
[0015]上述一種納米級藥物顆粒的制備裝置，其特征是:所述沉積層去除設備為刻蝕設備，所述刻蝕設備包括第一外殼和安裝在所述第一外殼內的刻蝕機。
[0016]上述一種納米級藥物顆粒的制備裝置，其特征是:所述納米藥粒移出設備包括第二外殼和安裝在所述第二外殼內且帶動基板進行振動的振動臺。
[0017]上述一種納米級藥物顆粒的制備裝置，其特征是:多個所述納米級凹痕的結構和尺寸均相同，且多個所述納米級凹痕呈均勻布設；所述氣相沉積室和所述沉積層去除設備內所設置的基板放置架均呈水平布設；所述下包覆層、上包覆層和外包覆層均為緩釋層。
[0018]上述一種納米級藥物顆粒的制備裝置，其特征是:所述納米級凹痕為半球形凹痕，所述下包覆層為半球形，所述上包覆層布設在一平面上。
[0019]本實用新型與現有技術相比具有以下優點:
[0020]1、所采用的固態藥物制備裝置結構簡單、設計合理且投入成本較低、使用操作簡便、使用效果好，能在固態藥粒制備一層或多層外包覆層。
[0021]2、所采用的組裝式藥物制備裝置結構簡單、設計合理且投入成本較低，并且該組裝式藥物制備裝置使用操作簡便且使用效果好，加工效率高且加工質量易于保證，能簡便、快速將氣態、分子或液態藥物封裝于包覆膜內，并在包覆膜外側再包覆一層或多層外包覆層，形成納米級藥物顆粒。
[0022]3、固態藥物制備裝置和組裝式藥物制備裝置均利用氣相沉積原理進行緩釋膜包覆，具有加工速度快、加工質量高、易于操作等優點，并包覆層的層厚易于控制。
[0023]4、所采用的組裝式藥物制備裝置實用價值高且適用面廣，能對氣態、液態和固態藥物進行有效封裝。
[0024]5、加工成型的納米級藥物顆粒結構簡單、設計合理且加工簡便、使用效果好，加工成本較低，能充分發揮納米藥物和緩釋制劑的優勢。同時，其外側所包覆的外包覆層的層厚和數量均能進行簡易調整，從而對所包覆芯藥的釋藥速率進行調整。
[0025]綜上所述，本實用新型結構簡單、設計合理且使用操作簡便、使用效果好，能簡便、快速完成外覆緩釋膜的納米級藥物顆粒的制備過程。
[0026]下面通過附圖和實施例，對本實用新型的技術方案做進一步的詳細描述。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0027]圖1為本實用新型實施例1中所采用固態藥物制備裝置的結構示意圖。
[0028]圖2為本實用新型實施例1中加工成型納米級藥物顆粒的結構示意圖。
[0029]圖3為本實用新型實施例2中所采用組裝式藥物制備裝置的外部結構示意圖。
[0030]圖4為本實用新型實施例2中所采用組裝式藥物制備裝置內部基板的布設位置示意圖。
[0031]圖5為本實用新型所采用基板的結構示意圖。
[0032]圖6為本實用新型實施例2中所采用基板上的下沉積層的結構示意圖。
[0033]圖7為本實用新型實施例2中所采用基板上下沉積層、上沉積層和藥物層的結構示意圖。
[0034]圖8為本實用新型實施例2中所采用基板上已加工完成納米藥粒的布設位置示意圖。
[0035]圖9為本實用新型實施例2中加工成型納米級藥物顆粒的結構示意圖。
[0036]圖10為本實用新型實施例3中所采用組裝式藥物制備裝置的結構示意圖。
[0037]圖11為本實用新型實施例3中所采用基板上下沉積層、上沉積層和藥物層的結構示意圖。
[0038]圖12為本實用新型實施例3中所采用基板上已加工完成納米藥粒的布設位置示意圖。
[0039]圖13為本實用新型實施例3中加工成型納米級藥物顆粒的結構示意圖。
[0040]附圖標記說明:
[0041]I 一氣相沉積室；1-1 一第一機架；2-1—下沉積層；
[0042]2-2—藥物層；2-3—上沉積層；3_1—下包覆層；
[0043]3-2—芯藥；3-3—上包覆層；3_4—外包覆層；
[0044]4一納米級凹痕；5—基板；6—基板放置架；
[0045]7—納米藥粒移出設備；7-1—第三機架；8—藥液輸送管道；
[0046]9一納米過濾膜；10—刻蝕設備；10-1—第二機架；
[0047]11 一電極夾頭；12—藥粒收集箱；13—皮帶輸送機構；
[0048]14一觀察窗；15—納米級球形顆粒；16—振動臺；
[0049]17—固態藥粒封裝設備；18—拱形通道；19一包覆材料進氣管；
[0050]20—高壓氣體設備；21—第四機架；22—氣動攪拌機；

【具體實施方式】
[0051]實施例1
[0052]如圖1所示的一種納米級藥物顆粒的制備裝置，包括固態藥物制備裝置；所述固態藥物制備裝置為固態藥粒封裝設備17。所述固態藥粒封裝設備17為用于在固態藥粒外側包覆一層外包覆層3-4的第二氣相沉積室，所述第二氣相沉積室內安裝有對所述固態藥粒進行連續攪拌并使得各固態藥粒均處于懸浮狀態的氣動攪拌機22。所述固態藥粒為納米級顆粒。所述納米藥粒為所述固態藥粒。所述第二氣相沉積室上安裝有將對固態藥粒進行包覆的包覆材料以氣態形式送入第二氣相沉積室內的包覆材料進氣管19，所述包覆材料進氣管19與所述第二氣相沉積室內部相通。
[0053]本實施例中，所述固態藥粒封裝設備17為所述第二氣相沉積室。此時，所述外包覆層3-4為由包覆材料氣相沉積形成的氣相沉積層，
[0054]實際使用時，所述固態藥粒封裝設備17也可以為為用于在固態藥粒外側包覆一層外包覆層3-4的噴霧室，所述噴霧室內安裝有對所述固態藥粒進行連續攪拌并使得各固態藥粒均處于懸浮狀態的氣動攪拌機22，并且所述噴霧室上安裝有將所述包覆材料均勻噴至所述固態藥粒外表面上的噴霧噴頭。當固態藥粒封裝設備17為所述噴霧室時，所述外包覆層3-4為由所述噴霧噴頭噴至固態藥粒外表面上的包覆材料固化形成的包覆層。
[0055]本實施例中，所述第二氣相沉積室包括第二殼體，所述第二殼體內安裝有溫控器和抽真空設備。實際使用過程中，通過所述溫控器和所述抽真空設備對所述第二氣相沉積室內的溫度和壓力進行調整。
[0056]本實施例中，所述第二氣相沉積室為物理氣相沉積室。
[0057]另外，所述第二殼體上部設置有用于裝入需加工固態藥粒的上部進料口，所述第二殼體的側部設置有將已加工完成納米級藥物顆粒取出的出料口。
[0058]本實施例中，所述外包覆層3-4為緩釋膜(也成為緩釋層)。并且，所述外包覆層3-4的材質(即所述包覆材料)為高分子藥物緩釋材料。
[0059]所述高分子藥物緩釋材料按照材料來源，分為天然高分子藥物緩釋材料(如明膠和羧甲基纖維素等)和合成高分子藥物緩釋材料。所述高分子藥物緩釋材料按其生物降解性能的不同，分為生物降解型和非生物降解型兩類。本實施例中，所述外包覆層3-4所用的高分子藥物緩釋材料為生物降解型高分子藥物緩釋材料。
[0060]本實施例中，如圖2所示，所述固態藥粒為納米級球形顆粒15，且加工成型的納米級藥物顆粒包括納米級球形顆粒15和包覆在納米級球形顆粒15外側的外包覆層3-4。
[0061]本實施例中,所述納米級球形顆粒15的粒徑為20納米?200納米,所述外包覆層3-4的層厚均為4納米?20納米。
[0062]實際加工時，可以根據具體需要，對納米級球形顆粒15的粒徑和外包覆層3-4的層厚進行相應調整。
[0063]本實施例中，所述外包覆層3-4的數量為一層。
[0064]實際制備時，所述外包覆層3-4的數量也可以為多層，通過所述固態藥物制備裝置反復進行多次加工即可。
[0065]實施例2
[0066]如圖3、圖4所示的一種組裝式藥物制備裝置，包括上表面上設置有多個納米級凹痕4的基板5、用于在基板5上制備氣相沉積層的第一氣相沉積室1、對基板5的待去除區域上的所述氣相沉積層進行去除并獲得多個納米藥粒的沉積層去除設備、將第一氣相沉積室I內的基板5移送至所述沉積層去除設備內的第二基板移送機構、將所述納米藥粒從基板5取出的納米藥粒移出設備7、將所述沉積層去除設備內的基板5移送至納米藥粒移出設備7的第三基板移動機構、在所述納米藥粒外側包覆外包覆層3-4的外側封裝設備和將納米藥粒移出設備7內的所述納米藥粒移送至所述外側封裝設備的藥粒移送通道。所述第一氣相沉積室I外側設置有將基板5移送至第一氣相沉積室I內的第一基板移送機構，所述第一氣相沉積室I和所述沉積層去除設備內均設置有供基板5放置的基板放置架6。所述第二基板移送機構連接于第一氣相沉積室I與所述沉積層去除設備之間，所述第三基板移動機構連接于所述沉積層去除設備與納米藥粒移出設備7之間，所述藥粒移送通道連接于納米藥粒移出設備7與所述外側封裝設備之間。所述第一氣相沉積室I上安裝有將對需封裝藥物進行封裝的封裝材料以氣態形式送入第一氣相沉積室I內的封裝材料進氣管，所述封裝材料進氣管與第一氣相沉積室I內部相通。結合圖5、圖6、圖7和圖8，所述基板5上的氣相沉積層包括平鋪在基板5上表面上的下沉積層2-1和平鋪在下沉積層2-1上方的上沉積層2-3，所述下沉積層2-1和上沉積層2-3均為由所述封裝材料氣相沉積形成的沉積層。所述第一氣相沉積室I上設置有將需封裝藥物送入第一氣相沉積室I內的送藥裝置，所述需封裝藥物位于下沉積層2-1和上沉積層2-3之間。所述納米藥粒包括芯藥3-2、包覆在芯藥3-2下部外側的下包覆層3-1和包覆在芯藥3-2上部外側的上包覆層3-3。所述待去除區域為基板5上除多個所述納米級凹痕4之外的區域。所述下沉積層2-1由位于待去除區域上方的下去除層和多個分別位于多個所述納米級凹痕4上方的下包覆層3-1組成，所述上沉積層2-3由位于待去除區域上方的上去除層和多個分別位于多個所述納米級凹痕4上方的上包覆層3-3組成，位于納米級凹痕4上方且包覆在下包覆層3-1與上包覆層3-3之間的所述需封裝藥物為芯藥3-2。
[0067]所述外側封裝設備為固態藥粒封裝設備17。所述固態藥粒封裝設備17為用于在固態藥粒外側包覆一層外包覆層3-4的第二氣相沉積室或噴霧室，所述第二氣相沉積室和所述噴霧室內均安裝有對所述固態藥粒進行連續攪拌并使得各固態藥粒均處于懸浮狀態的氣動攪拌機22。所述固態藥粒為納米級顆粒；所述納米藥粒為所述固態藥粒。所述外包覆層3-4為由包覆材料氣相沉積形成的氣相沉積層，所述第二氣相沉積室上安裝有將對固態藥粒進行包覆的包覆材料以氣態形式送入第二氣相沉積室內的包覆材料進氣管19，所述包覆材料進氣管19與所述第二氣相沉積室內部相通；所述噴霧室上安裝有將所述包覆材料均勻噴至所述固態藥粒外表面上的噴霧噴頭。
[0068]本實施例中，所述固態藥粒封裝設備17為所述第二氣相沉積室。
[0069]實際使用時，所述固態藥粒封裝設備17也可以為所述噴霧室。
[0070]本實施例中，所述第二氣相沉積室包括第二殼體，所述第二殼體內安裝有溫控器和抽真空設備。實際使用過程中，通過所述溫控器和所述抽真空設備對所述第二氣相沉積室內的溫度和壓力進行調整。
[0071 ] 本實施例中，所述第二氣相沉積室為物理氣相沉積室。
[0072]本實施例中，所述外包覆層3-4為緩釋膜(也成為緩釋層)。并且，所述外包覆層3-4的材質(即所述包覆材料)為高分子藥物緩釋材料。
[0073]本實施例中，所述外包覆層3-4所用的高分子藥物緩釋材料為生物降解型高分子藥物緩釋材料。
[0074]本實施例中，所述固態藥粒封裝設備17上安裝有將所述固態藥粒送至所述第二氣相沉積室內的送藥通道，所述送藥通道與所述第二氣相沉積室內部相通。
[0075]所述第二殼體上部設置有用于裝入需加工固態藥粒的上部進料口，所述第二殼體的側部設置有將已加工完成納米級藥物顆粒取出的出料口。同時，所述第二殼體的側部開有與所述藥粒移送通道內部相通的側部進料口。實際使用時，所述送藥通道與所述上部進料口相接。
[0076]本實施例中，所述藥粒移送通道為拱形通道18，所述納米藥粒移出設備7內安裝有將所述納米藥粒吹送至拱形通道18的高壓氣體設備20。
[0077]本實施例中，所述封裝材料進氣管與藥物進氣管2采用同一管道。
[0078]本實施例中，所述第一氣相沉積室I為物理氣相沉積室。
[0079]實際使用過程中，通過調整所述下沉積層2-1和上沉積層2-3的氣相沉積時間，對下沉積層2-1和上沉積層2-3的層厚進行相應調整。
[0080]本實施例中，所述包覆膜為緩釋膜。并且，所述下沉積層2-1和上沉積層2-3的材質(即所述封裝材料)為高分子藥物緩釋材料。
[0081]結合圖5，本實施例中，多個所述納米級凹痕4的結構和尺寸均相同，且多個所述納米級凹痕4呈均勻布設。所述第一氣相沉積室I和所述沉積層去除設備內所設置的基板放置架6均呈水平布設。
[0082]實際使用時，可以根據具體需要，對多個所述納米級凹痕4的結構和尺寸進行相應調整。
[0083]本實施例中，所述納米級凹痕4為半球形凹痕，所述下包覆層3-1為半球形，所述上包覆層3-3布設在一平面上。也就是說，所述上包覆層3-3為一個平鋪層。這樣，便于加工完成的納米藥粒從基板5上移出。
[0084]實際使用時，所述基板5為玻璃板或石英板。所述納米級凹痕4的直徑最小可達20納米。
[0085]同時，本實用新型還包括供第一氣相沉積室I安裝的第一機架1-1、供所述沉積層去除設備安裝的第二機架10-1、供納米藥粒移出設備7安裝的第三機架7-1和供所述外側封裝設備安裝的第四機架21，所述第一氣相沉積室1、所述沉積層去除設備、納米藥粒移出設備7和所述外側封裝設備由前至后進行安裝且其均位于同一水平面上；所述第一基板移送機構為夾持機構，所述第二基板移送機構和所述第二基板移送機構均為鏈輪鏈條輸送機構或皮帶輸送機構13。所述第一氣相沉積室1、所述沉積層去除設備和納米藥粒移出設備7上均開有供基板5進出的基板進口和基板出口。
[0086]本實施例中，所述第二基板移送機構和所述第三基板移送機構均為皮帶輸送機構13。
[0087]本實施例中，所述夾持機構為電極夾頭11。
[0088]本實施例中，所述送藥裝置為將需封裝藥物以氣態形式送入第一氣相沉積室I內的藥物進氣管2，所述藥物進氣管2安裝在第一氣相沉積室I上且其與第一氣相沉積室I內部相通。所述氣相沉積層還包括平鋪在下沉積層2-1上的藥物層2-2，所述藥物層2-2為由所述需封裝藥物氣相沉積形成的沉積層，所述藥物層2-2位于下沉積層2-1和上沉積層
2-3之間。并且，所述藥物層2-2位于多個所述納米級凹痕4上方。此時，所述芯藥3-2為位于納米級凹痕4上方的下沉積層2-1。
[0089]也就是說，當需封裝藥物為氣態或分子形式時，采用藥物進氣管2將所述需封裝藥物送入第一氣相沉積室I。實際使用時，所述需封裝藥物也可以為固態顆粒。此時，需要將所述送藥裝置調整為向多個所述納米級凹痕4送入固態顆粒的裝置。
[0090]實際使用時，也可以在藥物進氣管2的出氣口上安裝氣體噴頭，通過所述氣體噴頭將需封裝藥物均勻噴至基板5的上表面上。
[0091]本實施例中，所述第一氣相沉積室I包括第一殼體，所述第一殼體內安裝有溫控器和抽真空設備。實際使用過程中，通過所述溫控器和所述抽真空設備對第一氣相沉積室I內的溫度和壓力進行調整。
[0092]本實施例中，所述沉積層去除設備為刻蝕設備10，所述刻蝕設備10包括第一外殼和安裝在所述第一外殼內的刻蝕機。
[0093]并且，所述刻蝕設備10為激光刻蝕機。實際使用時，所述刻蝕設備10可以采用其它類型的刻蝕機。
[0094]本實施例中，所述納米藥粒移出設備7包括第二外殼和安裝在所述第二外殼內且帶動基板5進行振動的振動臺16。所述納米藥粒移出設備7內的基板5位于所述振動臺16上。
[0095]本實施例中，通過所述振動臺16的機械振動，將加工完成的納米藥粒從基板5移出，再對移出的納米藥粒進行收集即可。
[0096]本實施例中，所述第二外殼底部設置有藥粒收集箱12，所述藥粒收集箱12內部與所述第二外殼內部相通。
[0097]實際使用時，也可以采用其它方式將納米藥粒從基板5移出，如利用溫度差引起的基板5上納米級凹痕4的擴大和加工完成納米藥粒的收縮，將納米藥粒移出。此時，將所述第二外殼內設置有加熱裝置和溫度檢測單元。
[0098]本實施例中，所述第一外殼、所述第二外殼以及第一氣相沉積室I和第二氣相沉積室的殼體上均設置有觀察窗14。
[0099]本實施例中，所述第一氣相沉積室I和所述沉積層去除設備內所設置的基板放置架6均呈水平布設；所述下包覆層3-1、上包覆層3-3和外包覆層3-4均為緩釋層(也稱為緩釋膜)。
[0100]如圖9所示,本實施例中所加工成型的納米級藥物顆粒為由芯藥3-2、包覆在芯藥
3-2下部外側的下包覆層3-1和包覆在芯藥3-2上部外側的上包覆層3-3組成的納米級顆粒，所述下包覆層3-1為半球形，所述上包覆層3-3布設在一平面上。所述下包覆層3-1和上包覆層3-3形成包覆于芯藥3-2外側的包覆膜。本實施例中，所述下包覆層3-1和上包覆層3-3之間存在間隙。并且，所述上包覆層3-3和下包覆層3-1外側再包覆一層或多層外包覆層3-4。因而，所述上包覆層3-3和下包覆層3-1外側還包覆有外包覆層3-4，所述外包覆層3-4的數量為一層或多層，多層所述外包覆層3-4由內至外布設。
[0101]實際加工時，所述納米級顆粒的粒度為20納米?200納米，所述上包覆層3-3和下包覆層3-1的層厚均為4納米?20納米。本實施例中，本實施例中，下沉積層2-1和上沉積層2-3的層厚均為5納米。
[0102]本實施例中，所述外包覆層3-4的數量為一層。實際加工時，所述外包覆層3-4的數量也可以為多層。
[0103]實際對外包覆層3-4進行制備時，通過所述藥粒移送通道將納米藥粒移出設備7中的所述納米藥粒移至所述外側封裝設備，再采用所述外側封裝設備在所述納米藥粒外側包覆一層外包覆層3-4。實際制備時，也可以不采用所述外側封裝設備，先將納米藥粒移出設備7中的所述納米藥粒收集至藥粒收集箱12內，之后再采用第一氣相沉積室1、所述沉積層去除設備和納米藥粒移出設備7組成的封裝設備在所述納米藥粒外側包覆外包覆層
3-4，只需將所述送藥裝置替換為向多個所述納米級凹痕4送入固態顆粒的裝置即可；實際加工時，也可以采用現有緩釋藥粒外側緩釋膜的包覆方法在上包覆層3-3和下包覆層3-1外側包覆外包覆層3-4。
[0104]相應地，可以根據實際需要，在下沉積層2-1和上沉積層2-3外側包覆多層外包覆層 3_4。
[0105]另外，實際加工時，也可以不在所述納米藥粒外側包覆所述外包覆層3-4。
[0106]實施例3
[0107]本實施例中，如圖10所示，所采用的組裝式藥物制備裝置與實施例2不同的是:所述送藥裝置為將需封裝藥物以液態形式送入氣相沉積室I內的藥液輸送管道8，所述藥液輸送管道8安裝在氣相沉積室I上且其與氣相沉積室I內部相通；所述藥液輸送管道8的藥液出口位于放置于氣相沉積室I內的基板5正上方，所述藥液出口上裝有納米過濾膜9，所述納米過濾膜9的形狀和尺寸均與基板5相同，所述納米過濾膜9上開有多個納米級過濾孔，多個所述納米級過濾孔的數量與多個所述納米級凹痕4的數量相同，且多個所述納米級過濾孔的布設位置分別與基板5上的多個所述納米級凹痕4的布設位置一一對應。
[0108]也就是說，當需封裝藥物為液態時，采用藥液輸送管道8將所述需封裝藥物送入氣相沉積室I。
[0109]本實施例中，所述封裝材料進氣管與藥液輸送管道8采用同一管道。
[0110]實際使用時，也可以在藥液輸送管道8的出液口上安裝噴霧噴頭，通過所述噴霧噴頭將需封裝藥物均勻噴至基板5的上表面上。
[0111]本實施例中，所述藥物層2-2為液態。對所述納米藥粒進行加工時，圖8為本實用新型實施例2中所采用基板5上的下沉積層2-1、上沉積層2-3和藥物層2-2的結構詳見圖11，已加工完成納米藥粒的布設位置詳見圖12。
[0112]本實施例中，所采用組裝式藥物制備裝置的其余部分結構和連接關系均與實施例2相同。
[0113]以上所述，僅是本實用新型的較佳實施例，并非對本實用新型作任何限制，凡是根據本實用新型技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、變更以及等效結構變化，均仍屬于本實用新型技術方案的保護范圍內。
【權利要求】
1.一種納米級藥物顆粒的制備裝置，其特征在于:包括固態藥物制備裝置或組裝式藥物制備裝置； 所述組裝式藥物制備裝置包括上表面上設置有多個納米級凹痕(4)的基板(5)、用于在基板(5)上制備氣相沉積層的第一氣相沉積室(I)、對基板(5)的待去除區域上的所述氣相沉積層進行去除并獲得多個納米藥粒的沉積層去除設備、將第一氣相沉積室(I)內的基板(5)移送至所述沉積層去除設備內的第二基板移送機構、將所述納米藥粒從基板(5)取出的納米藥粒移出設備(7)、將所述沉積層去除設備內的基板(5)移送至納米藥粒移出設備(7)的第三基板移動機構、在所述納米藥粒外側包覆外包覆層(3-4)的外側封裝設備和將納米藥粒移出設備(7)內的所述納米藥粒移送至所述外側封裝設備的藥粒移送通道；所述第一氣相沉積室(I)外側設置有將基板(5)移送至第一氣相沉積室(I)內的第一基板移送機構，所述第一氣相沉積室(I)和所述沉積層去除設備內均設置有供基板(5)放置的基板放置架￠);所述第二基板移送機構連接于第一氣相沉積室(I)與所述沉積層去除設備之間，所述第三基板移動機構連接于所述沉積層去除設備與納米藥粒移出設備(7)之間，所述藥粒移送通道連接于納米藥粒移出設備(7)與所述外側封裝設備之間；所述第一氣相沉積室(I)上安裝有將對需封裝藥物進行封裝的封裝材料以氣態形式送入第一氣相沉積室(I)內的封裝材料進氣管，所述封裝材料進氣管與第一氣相沉積室(I)內部相通；所述基板(5)上的氣相沉積層包括平鋪在基板(5)上表面上的下沉積層(2-1)和平鋪在下沉積層(2-1)上方的上沉積層(2-3)，所述下沉積層(2-1)和上沉積層(2-3)均為由所述封裝材料氣相沉積形成的沉積層；所述第一氣相沉積室(I)上設置有將需封裝藥物送入第一氣相沉積室(I)內的送藥裝置，所述需封裝藥物位于下沉積層(2-1)和上沉積層(2-3)之間；所述納米藥粒包括芯藥(3-2)、包覆在芯藥(3-2)下部外側的下包覆層(3-1)和包覆在芯藥(3-2)上部外側的上包覆層(3-3);所述待去除區域為基板(5)上除多個所述納米級凹痕(4)之外的區域；所述下沉積層(2-1)由位于待去除區域上方的下去除層和多個分別位于多個所述納米級凹痕(4)上方的下包覆層(3-1)組成，所述上沉積層(2-3)由位于待去除區域上方的上去除層和多個分別位于多個所述納米級凹痕(4)上方的上包覆層(3-3)組成，位于納米級凹痕(4)上方且包覆在下包覆層(3-1)與上包覆層(3-3)之間的所述需封裝藥物為芯藥(3-2)； 所述固態藥物制備裝置和所述外側封裝設備均為固態藥粒封裝設備(17);所述固態藥粒封裝設備(17)為用于在固態藥粒外側包覆一層外包覆層(3-4)的第二氣相沉積室或噴霧室，所述第二氣相沉積室和所述噴霧室內均安裝有對所述固態藥粒進行連續攪拌并使得各固態藥粒均處于懸浮狀態的氣動攪拌機(22);所述固態藥粒為納米級顆粒；所述納米藥粒為所述固態藥粒；所述第二氣相沉積室上安裝有將對固態藥粒進行包覆的包覆材料以氣態形式送入第二氣相沉積室內的包覆材料進氣管(19)，所述包覆材料進氣管(19)與所述第二氣相沉積室內部相通；所述噴霧室上安裝有將所述包覆材料均勻噴至所述固態藥粒外表面上的噴霧噴頭。
2.按照權利要求1所述的一種納米級藥物顆粒的制備裝置，其特征在于:所述固態藥粒封裝設備(17)上安裝有將所述固態藥粒送至所述第二氣相沉積室內的送藥通道，所述送藥通道與所述第二氣相沉積室內部相通。
3.按照權利要求1或2所述的一種納米級藥物顆粒的制備裝置，其特征在于:所述藥粒移送通道為拱形通道(18)，所述納米藥粒移出設備(7)內安裝有將所述納米藥粒吹送至拱形通道(18)的高壓氣體設備(20)。
4.按照權利要求1或2所述的一種納米級藥物顆粒的制備裝置，其特征在于:還包括供氣相沉積室(I)安裝的第一機架(1-1)、供所述沉積層去除設備安裝的第二機架(10-1)、供納米藥粒移出設備(7)安裝的第三機架(7-1)和供所述外側封裝設備安裝的第四機架(21)，所述氣相沉積室(I)、所述沉積層去除設備、納米藥粒移出設備(7)和所述外側封裝設備由前至后進行安裝且其均位于同一水平面上；所述第一基板移送機構為夾持機構，所述第二基板移送機構和所述第二基板移送機構均為鏈輪鏈條輸送機構或皮帶輸送機構(13);所述氣相沉積室(I)、所述沉積層去除設備和納米藥粒移出設備(7)上均開有供基板(5)進出的基板進口和基板出口。
5.按照權利要求1或2所述的一種納米級藥物顆粒的制備裝置，其特征在于:所述送藥裝置為將需封裝藥物以氣態形式送入氣相沉積室(I)內的藥物進氣管(2)，所述藥物進氣管(2)安裝在氣相沉積室(I)上且其與氣相沉積室(I)內部相通；所述氣相沉積層還包括平鋪在下沉積層(2-1)上的藥物層(2-2)，所述藥物層(2-2)為由所述需封裝藥物氣相沉積形成的沉積層，所述藥物層(2-2)位于下沉積層(2-1)和上沉積層(2-3)之間。
6.按照權利要求1或2所述的一種納米級藥物顆粒的制備裝置，其特征在于:所述送藥裝置為將需封裝藥物以液態形式送入氣相沉積室(I)內的藥液輸送管道(8)，所述藥液輸送管道(8)安裝在氣相沉積室(I)上且其與氣相沉積室(I)內部相通；所述藥液輸送管道(8)的藥液出口位于放置于氣相沉積室(I)內的基板(5)正上方，所述藥液出口上裝有納米過濾膜(9)，所述納米過濾膜(9)的形狀和尺寸均與基板(5)相同，所述納米過濾膜(9)上開有多個納米級過濾孔，多個所述納米級過濾孔的數量與多個所述納米級凹痕(4)的數量相同，且多個所述納米級過濾孔的布設位置分別與基板(5)上的多個所述納米級凹痕(4)的布設位置一一對應。
7.按照權利要求1或2所述的一種納米級藥物顆粒的制備裝置，其特征在于:所述沉積層去除設備為刻蝕設備(10)，所述刻蝕設備(10)包括第一外殼和安裝在所述第一外殼內的刻蝕機。
8.按照權利要求1或2所述的一種納米級藥物顆粒的制備裝置，其特征在于:所述納米藥粒移出設備(7)包括第二外殼和安裝在所述第二外殼內且帶動基板(5)進行振動的振動臺(16) ο
9.按照權利要求1或2所述的一種納米級藥物顆粒的制備裝置，其特征在于:多個所述納米級凹痕(4)的結構和尺寸均相同，且多個所述納米級凹痕(4)呈均勻布設；所述氣相沉積室(I)和所述沉積層去除設備內所設置的基板放置架(6)均呈水平布設；所述下包覆層(3-1)、上包覆層(3-3)和外包覆層(3-4)均為緩釋層。
10.按照權利要求1或2所述的一種納米級藥物顆粒的制備裝置，其特征在于:所述納米級凹痕(4)為半球形凹痕，所述下包覆層(3-1)為半球形，所述上包覆層(3-3)布設在一平面上。
【文檔編號】A61J3/00GK204033785SQ201420491183
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2014年8月28日 優先權日:2014年8月28日
【發明者】曾舒樂 申請人:曾舒樂